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半導体の酸化機構と酸化膜 /応用物理学会半導体分
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≪商品情報≫
著者名：応用物理学会半導体分野将来基金委員会
出版社名：近代科学社Ｄｉｇｉｔａｌ
発行年月：2026年02月
判型：Ｂ５
ISBN：9784764907799
≪内容情報≫
酸化は、半導体デバイスにおいて最も重要な技術の一つです。本書は、主にSiおよびSiCの酸化機構、さらにそれによって形成されたSiO2と界面の特徴について、酸化に伴って起こる様々な現象の物理的理解に関する議論と、さらにその理解に基づいて課題をどのように克服したらよいのかという議論から構成されています。半導体デバイスをこれから学ぼうとする方はもちろん、すでに本分野の研究活動にたずさわっている方、また本領域を専門としない半導体技術のプロの方にも，酸化の奥深さと面白さを味わっていただくことができます。
著者名：応用物理学会半導体分野将来基金委員会
出版社名：近代科学社Ｄｉｇｉｔａｌ
発行年月：2026年02月
判型：Ｂ５
ISBN：9784764907799
≪内容情報≫
酸化は、半導体デバイスにおいて最も重要な技術の一つです。本書は、主にSiおよびSiCの酸化機構、さらにそれによって形成されたSiO2と界面の特徴について、酸化に伴って起こる様々な現象の物理的理解に関する議論と、さらにその理解に基づいて課題をどのように克服したらよいのかという議論から構成されています。半導体デバイスをこれから学ぼうとする方はもちろん、すでに本分野の研究活動にたずさわっている方、また本領域を専門としない半導体技術のプロの方にも，酸化の奥深さと面白さを味わっていただくことができます。
