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アズワン 2-960-64 研究用高純度シリコンウェハー 2×N型【1箱(25枚入)】 296064
販売価格
126,779
円 （税込）
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アズワン
メーカーお問い合わせ：0120-700-875
【商品説明】
【特徴】
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
【仕様】
サイズ（インチ）×伝導型：2×N型
●OF長さ（mm）×ウェハー厚（μm）：17.5±2.5×280±25
●入数：1箱（25枚入）
●製造方法：CZ法
●面方位：100
●OF位置：110
●抵抗値：0.1～100Ω・cm ※低抵抗：≦0.02Ω・cm、高抵抗：≧500Ω・cm
●パーティクル：≧0.3μm、10個以下
●※特注対応品：
方位（切断角度）、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。
メーカーお問い合わせ：0120-700-875
【商品説明】
【特徴】
研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
【仕様】
サイズ（インチ）×伝導型：2×N型
●OF長さ（mm）×ウェハー厚（μm）：17.5±2.5×280±25
●入数：1箱（25枚入）
●製造方法：CZ法
●面方位：100
●OF位置：110
●抵抗値：0.1～100Ω・cm ※低抵抗：≦0.02Ω・cm、高抵抗：≧500Ω・cm
●パーティクル：≧0.3μm、10個以下
●※特注対応品：
方位（切断角度）、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
多様な形状加工と表面処理が可能です（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。
ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。