1/2
時点_ポイント最大2倍
薄膜化技術/和佐清孝/早川茂
販売価格
5,500
円 (税込)
送料無料
- 出荷目安:
- 1~3日で発送予定
たまるdポイント(通常) 50
+キャンペーンポイント(期間・用途限定) 最大1倍
※たまるdポイントはポイント支払を除く商品代金(税抜)の1%です。
※表示倍率は各キャンペーンの適用条件を全て満たした場合の最大倍率です。
各キャンペーンの適用状況によっては、ポイントの進呈数・付与倍率が最大倍率より少なくなる場合がございます。
dカードでお支払ならポイント3倍
各キャンペーンの適用状況によっては、ポイントの進呈数・付与倍率が最大倍率より少なくなる場合がございます。
- 商品情報
- レビュー
和佐清孝早川茂
共立出版
ISBN:4320086139/9784320086135
発売日:2002年06月
【内容紹介】
初版を発行してから20年、第2版を出版してから10年が経過した。初版出版後、薄膜はディスプレイやメモリーディスクなど半導体IC以外のエレクトロニクス分野にも重要視されてきた。第2版出版後の最近の10年を見ると、原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール材料、デバイス形成の要素技術であり、21世紀においてエレクトロニクスや産業技術分野でますます重要となることが分かってきた。この第3版においては、最近の薄膜技術を基礎科学的な視点から追加したもので、古くて新しい技術書である。
共立出版
ISBN:4320086139/9784320086135
発売日:2002年06月
【内容紹介】
初版を発行してから20年、第2版を出版してから10年が経過した。初版出版後、薄膜はディスプレイやメモリーディスクなど半導体IC以外のエレクトロニクス分野にも重要視されてきた。第2版出版後の最近の10年を見ると、原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール材料、デバイス形成の要素技術であり、21世紀においてエレクトロニクスや産業技術分野でますます重要となることが分かってきた。この第3版においては、最近の薄膜技術を基礎科学的な視点から追加したもので、古くて新しい技術書である。
※本データはこの商品が発売された時点の情報です。


